在弱堿性介質(zhì)里以鐵氰化鉀為鈍化劑，對(duì)銅化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)(CMP)過(guò)程中的電化學(xué)行為進(jìn)行了在線測(cè)試。考察了銅在有無(wú)鐵氰化鉀存在下的極化行為及鐵氰化鉀濃度對(duì)腐蝕電位的影響，研究了在不同壓力下銅拋光前后的...
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發(fā)布日期：2010-06-10 作者：胡岳華,何捍衛(wèi),黃可龍
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